4.3 光刻胶su-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:高分辨率:su-8光刻胶具有---的分辨率,可以制备细致的微结构,适合制作小尺寸线条和微细图案。粘附性强:su-8光刻胶在许多基片表---有---的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。厚度可调:su-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,su8模具加工设备,适用于制备不同厚度的微结构。化学稳定性:su-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。热稳定性:su-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。多层光刻:su-8光刻胶可用于多层光刻制备,能够实现更复杂的微结构和器件。应用广泛:su-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、mems、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
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