吉林显影机-顶旭

耗材

硅片

硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。

数显测厚规（千分款）

测量匀胶厚度量程:0~10mm

精度：0.001mm

公差：≤±0.005mm

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue，通过专ye、---和合作，为客户创造的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。