显影机-顶旭

su8模具制备流程

1.备片

从化学品存放区取出清洁的硅片（---硅片表面无尘）。

2.匀胶

1）打开匀胶机，将硅片放置在匀胶机托盘上，打开真空开关，---硅片固定在托盘上不动；

2）将su8光刻胶滴在硅片中间，根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。（举例说明：目标胶厚度50um，光刻胶型号：su8-2075，1段500转8s，2段1800转30s）

3.前烘

1）将涂布好su8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有机溶ji，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）

4.---

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行---，---时间和强度根据su-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置---能量25mw/cm2，时间12s）

微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖su8模具加工、pdms芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。

耗材

硅片

硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，显影机，通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。