su8是一种常用的光刻胶，---适用于微电子和光电子领域。它具有---的光刻性能，能够实现---的微结构制作。su8的使用方法是通过---和显影两个步骤来实现的。在---过程中，通过紫外光或深紫外光照射在光刻胶上，使光刻胶在---区域发生化学反应，形成硬化的结构。在显影过程中，pdms模具，通过化学溶剂将未---的光刻胶溶解掉，从而得到所需的微结构。su8的光刻性能主要取决于其化学成分和---条件。为了获得佳的光刻效果，需要选择合适的---条件和化学溶剂，并且在使用过程中需要注意光刻胶的保存和使用条件。
环氧树脂su-8---后烘烤（光刻胶的二次烘烤）
第二次光刻胶烘烤称为 peb（---后烘烤）。顾名思义，它是在紫外线照射后完成的。紫外线照射ji活了 su-8 光刻胶中的光敏成分，但它需要能量来继续反应；这种烘焙带来了能量。至于软烘烤，有问题的一点是 su-8 光刻胶内部的机械应力，因此必须稍微加热和冷却以尽可能减少这种应力。
加热模式与软烘烤相同，第yi个平台是 65°c，然后第二个平台是 95°c，每个平台的时间取决于 su-8 光刻胶层的厚度。
在继续该过程之前，请---您的晶圆处于室温。
pdms模具注意事项如下：
*在使用前应仔细检查其外观，若有损坏应及时处理。若在寒冷的天气中使用，应注意防冻裂；在使用完毕后需及时清理并妥善保管以备下次再用等。此外还需定期进行检查维护和更新升级。*新建的模型必须先出工程图样或者模板（由车间依据此下料），核对正确后再按图纸进行配制钢模或木模，千万不能凭感觉直接根据三维实体放下来做样品型芯。这主要是为了后续加工方便修改数据等等原因.同时应该注意---模型的准确性以及完整性，避免出现漏光、虚部提示等问题，---时可加入体积适当的“补”块来---此类问题.另外还要---留意整体装配体环境的配合是否合理(如开孔处有没有卡死等)以免发生干涉现象;要注意的就是要---浇注系统及冷却系统的合理性了。除此之外还需要做好人员操作技能培训、严格遵守安全规程等相关措施以提高工作效率与。
以上内容仅供参考，建议查阅书籍获得的信息。
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