pdms芯片模具设计-pdms芯片模具-顶旭微控技术有限公司

负性su-8光刻胶旋涂

为了创建稍后将成为模具的光刻胶层，我们使用匀胶机进行旋涂，pdms芯片模具，旋转速度、加速度和 su-8 光刻胶粘度将决定 su-8 光刻胶层的厚度。

要成功执行此步骤，必须采取一些预防措施：---您的旋涂机完全平整。将晶圆尽可能居中放置在旋涂机卡盘上，以获得ziui佳的涂层分布。出于与晶片相同的原因，将您的光刻胶尽可能地居中。分两步涂覆 su-8 光刻胶，一个在 10 到 30 秒内以低速和低加速度将光刻胶涂抹在基板上，然后在 30 到 60 秒内以高速和加速第二步以控制层厚度。使用微量移液器分配光刻胶以控制使用的 su-8 光刻胶数量。

顶旭微控提供pdms芯片模具定制加工服务，可提供纯硅模具，su8模具，亚克力模具，树脂模具。纯硅模具，pdms芯片模具设计，深刻比大，精度高；su8模具，采用光刻工艺，zui小线宽5um，深宽比2：1；亚克力模具，适合大于0.1mm的流道。顶旭微控，拥有he心技术，多年加工经验，效率gao，价ge实惠，承接科研定制，企业小批量、大批量定制。

su-8是一种高分辨率的负性光刻胶，拥有---的机械、介电、耐化学性和热性能，以及---的生物相容性。su8模具适合做pdms芯片浇筑模具。