微流控光刻机-顶旭微控技术有限公司-微流控光刻机企业

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    2024-4-9

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耗材

硅片

硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版(又称光罩,英文为mask reticle),简称掩膜版,是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。






匀胶机


调速范围和时间:i档:50~10000转/分,时间0~999s

ii档:50~10000转/分,微流控光刻机,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40w,单相110~240v真空泵抽气速率:>60l/min





顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。



光刻胶su-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:

高分辨率:su-8光刻胶具有---的分辨率,可以制备细致的微结构,适合制作小尺寸线条和微细图案。

粘附性强:su-8光刻胶在许多基片表---有---的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。

厚度可调:su-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,微流控光刻机性能,适用于制备不同厚度的微结构。

化学稳定性:su-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。

热稳定性:su-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,微流控光刻机企业,适用于需要高温处理的制备过程。

多层光刻:su-8光刻胶可用于多层光刻制备,微流控光刻机介绍,能够实现更复杂的微结构和器件。

应用广泛:su-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、mems、光学器件等多个领域中得到广泛应用。





顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖su8模具加工、pdms芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。


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