前烘
1)将涂布好su8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)
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1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行---,---时间和强度根据su-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置---能量25mw/cm2,时间12s)

后烘
将---后的硅片放置在热板上,进行后---烘烤,微流控光刻机,以---光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
六、显影
将硅片放入显影剂中,使未---部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)

清洗
将显---的硅片用异bing醇溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的su-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和。
su8模具制备流程
一、备片
从化学品存放区取出清洁的硅片(---硅片表面无尘)。
匀胶
1)打开匀胶机,微流控光刻机报价,将硅片放置在匀胶机托盘上,打开真空开关,---硅片固定在托盘上不动;

将su8光刻胶滴在硅片中间,根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。(举例说明:目标胶厚度50um,光刻胶型号:su8-2075,微流控光刻机,1段500转8s,2段1800转30s)
su8模具加工设备是一种的精密蚀刻机,微流控光刻机介绍,采用---数控系统进行操作。该设备的优点包括、稳定和的切割能力以及的性能指标和工作稳定性等特点。其工艺范围广,可以适应多种图形微小型零件的制作,是制作uv软硬结合模的机型,---适合电子行业如手机、数码相机及半导体发光器件等行业使用具有投资小、快;效益---特点.
顶旭微控技术有限公司

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