耗材
硅片
硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又称光罩,英文为mask reticle),简称掩膜版,是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
光刻胶su-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:
高分辨率:su-8光刻胶具有---的分辨率,可以制备细致的微结构,适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强:su-8光刻胶在许多基片表---有---的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调:su-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,显影机,适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性:su-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。
热稳定性:su-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻:su-8光刻胶可用于多层光刻制备,能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛:su-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、mems、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖su8模具加工、pdms芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。
数显测厚规(千分款)
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度:0.001mm
公差:≤±0.005mm
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