匀胶机报价-顶旭微控技术有限公司-贵州匀胶机

匀胶机

调速范围和时间：i档：50~10000转/分，贵州匀胶机，时间0~999s

ii档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40w，单相110~240v真空泵抽气速率：＞60l/min

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。

耗材

硅片

硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），匀胶机优势，简称掩膜版，是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，匀胶机设计，通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。