su8光刻机性能-su8光刻机-顶旭

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匀胶机


调速范围和时间:i档:50~10000转/分,时间0~999s

ii档:50~10000转/分,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40w,单相110~240v真空泵抽气速率:>60l/min





顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。



耗材

光刻掩膜板


菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构,通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单,适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而,由于其分辨率有限,无法满足制备细致微结构的需求。因此,su8光刻机性能,对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构,菲林掩膜板是一个合适的选择。

玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构,以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺复杂,但由于其高分辨率,能够实现更细致、更精que的微结构。---是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下,玻璃掩膜板具有明显优势。

在选择掩膜板类型时,应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构,而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求,选择适当的掩膜板类型将有助于---制备过程的成功和效率。





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光刻胶su-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:

高分辨率:su-8光刻胶具有---的分辨率,su8光刻机优点,可以制备细致的微结构,适合制作小尺寸线条和微细图案。

粘附性强:su-8光刻胶在许多基片表---有---的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。

厚度可调:su-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,适用于制备不同厚度的微结构。

化学稳定性:su-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。

热稳定性:su-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。

多层光刻:su-8光刻胶可用于多层光刻制备,su8光刻机报价,能够实现更复杂的微结构和器件。

应用广泛:su-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、mems、光学器件等多个领域中得到广泛应用。





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