匀胶机
调速范围和时间:i档:50~10000转/分,su8模具加工设备作用,时间0~999s
ii档:50~10000转/分,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40w,常州su8模具加工设备,单相110~240v真空泵抽气速率:>60l/min
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求,su8模具加工设备企业,单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又称光罩,英文为mask reticle),简称掩膜版,是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
桌面光刻机
---光源:紫外led光源波长:365nm;---面积:4英寸、6英寸可选;---方式:单面接触式定时---;---分辨率:2um;---强度:20~200mw/cm2可调;---不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:***20000h;电源输入:ac220v±10v,50hz功率:250w重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
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