顶旭苏州微控技术-su8光刻机报价-镇江su8光刻机

前烘

1）将涂布好su8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）

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1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行---，---时间和强度根据su-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置---能量25mw/cm2，时间12s）

后烘

将---后的硅片放置在热板上，su8光刻机怎么样，进行后---烘烤，以---光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

六、显影

将硅片放入显影剂中，使未---部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

清洗

将显---的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。

检查

使用显微镜检查制备的su-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和。

su8模具加工平台旨在为su8模具加工提供一个gao效、全mian的解决方案，该平台集成了桌面光刻机、匀胶机和热板等he心设备。桌面光刻机，体积小巧，采用led光源，su8光刻机，---分辨率可达2um，---均匀性大于90%，可实现微纳结构的精细制备；匀胶机，转速稳定性为±0.5%，转速达10000转，可---光刻胶均匀涂敷，提高一致性；热板，温度稳定性±1%，可为su8模具提供充分的烘烤，从而提升su8模具结构的耐久性和机械性能。相比传统加工平台，设备体积庞大，环境要求严苛，su8模具加工平台适应性强，光刻机占地面积小，普通实验室也可轻松部署。su8模具加工平台，有利于客户快速实现芯片制备，为微流控技术的推广和应用提供便捷途径。