光刻胶su-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:
高分辨率:su-8光刻胶具有---的分辨率,可以制备细致的微结构,su8光刻机优点,适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强:su-8光刻胶在许多基片表---有---的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调:su-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,su8光刻机价格,适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性:su-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,适用于各种应用环境。
热稳定性:su-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻:su-8光刻胶可用于多层光刻制备,su8光刻机,能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛:su-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、mems、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖su8模具加工、pdms芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。
匀胶机
调速范围和时间:i档:50~10000转/分,时间0~999s
ii档:50~10000转/分,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40w,单相110~240v真空泵抽气速率:>60l/min
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
数显测厚规(千分款)
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度:0.001mm
公差:≤±0.005mm
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue,通过专ye、---和合作,为客户创造的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
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