耗材
光刻掩膜板
菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构，通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单，适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而，由于其分辨率有限，无法满足制备细致微结构的需求。因此，对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构，菲林掩膜板是一个合适的选择。
玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构，以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺复杂，但由于其高分辨率，能够实现更细致、更精que的微结构。---是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下，玻璃掩膜板具有明显优势。
在选择掩膜板类型时，应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构，而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求，选择适当的掩膜板类型将有助于---制备过程的成功和效率。
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业，坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求zhuo越，通过专ye、---和合作，为客户创造的价值，共同kai创微流控领域的美好未来
匀胶机
调速范围和时间：i档：50~10000转/分，微流控光刻机，时间0~999s
ii档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40w，单相110~240v真空泵抽气速率：＞60l/min
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家---于微流控领域的---企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备su8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是制备su8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过---过程将微结构图形信息转移到su8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
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